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J-GLOBAL ID:200903034083783068

ガス冷却による等温焼き入れ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 堀田 実 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996236114
Publication number (International publication number):1998081913
Application date: Sep. 06, 1996
Publication date: Mar. 31, 1998
Summary:
【要約】【課題】 温度制御が容易なガス冷却による等温焼き入れ装置を提供する。【解決手段】 圧力容器1と、圧力容器1内のガス圧を調整するガス圧調整装置12と、圧力容器1内に設けられた断熱壁に囲まれ、この断熱壁の一部が開閉可能な炉2と、圧力容器1内に設けられ炉内ガスを熱交換器5で冷却し、冷却ファン6で循環する冷却ライン8と、炉内に設けられ炉内ガスを加熱するヒータ11と、炉内ガスを循環する循環ファン15と、被処理体9の表面および中心温度、炉内温度、圧力容器内圧力を入力し、ガス圧調整装置12、冷却ライン8、ヒータ11および循環ファン15を制御して被処理体9の表面温度と中心温度とが設定温度になるように制御する制御部20とを備える。
Claim (excerpt):
圧力容器と、該圧力容器内のガス圧を調整するガス圧調整装置と、該圧力容器内に設けられ断熱壁に囲まれ、該断熱壁の一部が開閉可能な炉と、前記圧力容器内に設けられ、炉内ガスを熱交換器で冷却し冷却ファンで循環する冷却ラインと、前記炉内に設けられ炉内ガスを加熱するヒータと、前記炉内に設けられ炉内ガスを循環する循環ファンと、前記炉内に設けられ炉内ガスの温度を測定するガス温度センサと、前記圧力容器内に設けられガス圧を検出するガス圧センサと、炉内に載置される被処理体の表面および中心温度を測定する温度センサと前記ガス温度センサと前記ガス圧センサとの検出値を入力し、ガス圧調整装置、冷却ライン、ヒータおよび循環ファンを制御して被処理体の冷却を行い、被処理体の表面温度と中心温度が設定温度になるように制御する制御部とを備えたことを特徴とするガス冷却による等温焼き入れ装置。
IPC (2):
C21D 1/18 ,  C21D 1/74
FI (2):
C21D 1/18 X ,  C21D 1/74 T

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