Pat
J-GLOBAL ID:200903034123522505

エーテル、代表的には、THFの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003512218
Publication number (International publication number):2005505516
Application date: Jul. 10, 2002
Publication date: Feb. 24, 2005
Summary:
エーテル、代表的にはテトラヒドロフランの、対応する有機フィード物質の水素存在下での反応による製造方法が説明されている:その有機フィード物質はジカルボン酸及び/又は無水物、ジカルボン酸及び/又は無水物のモノエステル、ジカルボン酸及び/又は無水物のジエステル、ラクトン、及びこれらの2つ以上の混合物から選ばれ、以下の諸段階を含む。(a) 有機フィード物質を含む流れを第1の蒸発ゾーンに供給し、前記フィードを水素を含むサイクルガスと接触させてフィード物質の少くとも1部分をサイクルガスによってサイクルガス中に蒸発させ;(b) サイクルガスの少くとも1部分と蒸発したフィード物質とを触媒を含む第1の反応ゾーンに供給し、水素化と脱水が起る反応条件で操作し;(c) 未反応フィード物質、サイクルガス、希望する生成物、及びすべての共生成物や副生物を含む中間生成物の流れを第1の反応ゾーンから回収し;(d) 前記中間生成物の流れを第2の蒸発ゾーンに供給し、これを追加のフィード物質と接触させて中間生成物の流れによって前記追加フィード物質を中間生成物の流れ中に蒸発させ;(e) 段階(d)の生成物を触媒を含む後続の反応ゾーンに供給し、水素化及び、必要なら、脱水を起させる反応条件で操作し;(f) 後続の反応ゾーンからエーテルを含む生成物の流れを回収する。
Claim (excerpt):
以下の諸段階((a)〜(f))を含むことを特徴とする、ジカルボン酸及び/又は無水物;ジカルボン酸及び/又は無水物のモノエステル;ジカルボン酸及び/又は無水物のジエステル;ラクトン;及びこれらの2つ以上の混合物から選ばれる対応する有機フィード物質の水素存在下での反応によるエーテルの製造方法: (a) 有機フィード物質を含む流れを第1の蒸発ゾーンに供給し、前記フィードを水素を含むサイクルガスと接触させてフィード物質の少くとも1部分をサイクルガスによってサイクルガス中に蒸発させ; (b) サイクルガスの少くとも1部分と蒸発したフィード物質とを触媒を含む第1の反応ゾーンに供給し、水素化と脱水が起る反応条件で操作し; (c) 未反応フィード物質、サイクルガス、希望する生成物、及びすべての共生成物や副生物を含む中間生成物の流れを第1の反応ゾーンから回収し; (d) 前記中間生成物の流れを第2の蒸発ゾーンに供給し、これを追加のフィード物質と接触させて中間生成物の流れによって前記追加フィード物質を中間生成物の流れの中に蒸発させ; (e) 段階(d)の生成物を触媒を含む後続の反応ゾーンに供給し、水素化及び、必要なら、脱水を起させる反応条件で操作し; (f) 後続の反応ゾーンからエーテルを含む生成物の流れを回収する。
IPC (1):
C07D307/08
FI (1):
C07D307/08
F-Term (8):
4C037BA01 ,  4C037BA05 ,  4H039CA12 ,  4H039CA42 ,  4H039CA60 ,  4H039CB10 ,  4H039CB20 ,  4H039CG10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page