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J-GLOBAL ID：200903034129752405

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

Inventor： 西尾 繁 ,  加藤 幸治 ,  木村 忠広 ,  橋本 政弘 ,  鯉渕 滋 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997210288
Publication number (International publication number)：1998123712
Application date： Aug. 05, 1997
Publication date： May. 15, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 高感度、高解像度でかつ高耐熱性のポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及び解像度の良好なレジストパタ-ンを現出させることができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)一般式(I)(ただし、式中、R1〜R8のうち2つは水酸基を示し、R1〜R8のうち6つは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又はフェニル基を示し、これら水酸基以外の6つのRは互いに同じでも異なっていてもよい)で表されるジヒドロキシナフタレン化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物並びにこのポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、ついで現像するレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)一般式(I)【化1】(ただし、式中、R1〜R8のうち2つは水酸基を示し、R1〜R8のうち6つは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基又はフェニル基を示し、これら水酸基以外の6つのRは互いに同じでも異なっていてもよい)で表されるジヒドロキシナフタレン化合物、(c)活性化学線照射により酸を生じる化合物及び(d)側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有する化合物を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F