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J-GLOBAL ID：200903034158259904

ポリメチン系化合物、その製造方法、及びこれを含む近赤外線吸収材料

Inventor： 藤田 繁雄 ,  政岡 俊裕 ,  熊谷 洋二郎
Applicant, Patent owner： 山本化成株式会社 ,  三井東圧化学株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996296734
Publication number (International publication number)：1998140022
Application date： Nov. 08, 1996
Publication date： May. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 750nm〜1000nmの近赤外領域の吸収能に優れており、溶剤に対する溶解性が高く、光安定性が良好であり、近赤外線吸収フィルター、熱線遮断フィルム、光熱変換剤、セキュリティーインク等の近赤外線吸収材料に好適に用いることができる新規なポリメチン系化合物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表わされる新規なポリメチン系化合物及びこれを含有する近赤外線吸収材料。【化1】(式(I)中、R1、R2、R3、R4、R7、R8、R9、R10はアルキル基等を、R5、R6、R11、R12は水素原子等を示し、Z1はClO4-等の酸性残基を示す。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)で表わされるポリメチン系化合物。【化1】(式(I)中、R1、R7はアルキル基、アルコキシアルキル基、アラルキル基を示し、R2、R8はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を示す。R3、R4、R9、R10は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を示し、これらがアルキル基である場合、R3とR4及び/又はR9とR10が連結して、結合する窒素原子とともに複素環を形成してもよい。R5、R6、R11、R12は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示し、Z1は酸性残基を示す。)

IPC (3)：

C09B 23/00 ,  C07D209/14 ,  C09K 3/00 105

FI (3)：

C09B 23/00 L ,  C07D209/14 ,  C09K 3/00 105

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

• 特開平3-097589
  
• 光記録媒体、情報記録方法及び光記録媒体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-101321   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開平1-110988
  
• 特開平4-158084
  
• 特開平1-103484
  
• フタリド化合物、およびこれを用いる近赤外線吸収剤並びに記録材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-145673   Applicant：山本化成株式会社
• フタリド化合物、その製造法および該化合物を用いる記録材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-197871   Applicant：山本化成株式会社