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J-GLOBAL ID：200903034212452596

3重露光法

Inventor： 伊藤 良延
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 猪熊 克彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997053970
Publication number (International publication number)：1998232496
Application date： Feb. 20, 1997
Publication date： Sep. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】コンタクトホールのように、2次元的に極めて微細な寸法精度が要求される孤立パターンを、レジスト上に形成することができる露光法を提供する。【解決手段】レジストに焼き付けようとするパターンが3種類のレチクルパターン1,2,3のそれぞれの透光部1a,2a,3aの共通部分Cとなるように各レチクルパターンを形成し、3種類のレチクルパターンを用いてレジストを個別に露光し、且つ、各レジストパターンの透光部を透過する各回の露光量がレジストのしきい値Ithに達せず、共通部分Cについての合計の露光量がレジストのしきい値を越えるように各回の露光量を定めて露光する。

Claim (excerpt)：

レジストに焼き付けようとするパターンが3種類のレチクルパターンのそれぞれの透光部の共通部分となるように前記各レチクルパターンを形成し、該3種類のレチクルパターンを用いて前記レジストを個別に露光し、且つ、各レジストパターンの前記透光部を透過する各回の露光量が前記レジストのしきい値に達せず、前記共通部分についての合計の露光量がレジストの前記しきい値を越えるように各回の露光量を定めて露光する3重露光法。

IPC (2)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 514 C