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J-GLOBAL ID：200903034214893123
ドライエッチング装置及びドライエッチング方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996198015
Publication number (International publication number)：1998046371
Application date： Jul. 26, 1996
Publication date： Feb. 17, 1998
Summary：
【要約】【課題】 励起されたエッチングガスによる放電室の材料のエッチングに起因して発生したダストを確実に外部に排出することができる。【解決手段】 エッチングガス導入管2から石英放電室1に導入されたエッチングガスは、マイクロ波導波管3からのマイクロ波によって励起される。この励起されたエッチングガスは輸送管4と切換え弁9とを介してエッチング室5に流入して、被処理物をエッチング処理する。このエッチング処理の中断によって、石英放電室1の石英材料からダストが発生する。不活性ガス導入管12は、エッチング処理の中断後に窒素ガスを石英放電室1に導入し、石英放電室1内のダストを切換え弁9とバイパス管10とを介して外部に排出する。
Claim (excerpt)：
放電室と、上記放電室にエッチングガスを導入するエッチングガス導入管と、上記放電室にマイクロ波を導入し、上記放電室内の上記エッチングガスを励起する励起波導入手段と、上記励起されたエッチングガスによって被処理物をエッチング処理するエッチング室と、上記放電室と上記エッチング室とを互いに接続し、上記励起されたエッチングガスを上記放電室から上記エッチング室に送出するエッチングガス輸送管と、上記エッチング室から上記エッチングガスを排気する排気管とを具備するドライエッチング装置において、上記エッチングガス輸送管に接続されたバイパス管と、エッチング処理時に上記放電室を上記エッチングガス輸送管を介して上記エッチング室に連通し、エッチング処理の中断後に上記放電室を上記エッチングガス輸送管を介して上記バイパス管に連通する切換手段と、上記切換手段が上記放電室を上記エッチングガス輸送管を介して上記バイパス管に連通している時に不活性ガスを上記放電室に導入する不活性ガス導入管とを具備することを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (2)：
FI (2)：
C23F 4/00 A
, H01L 21/302 B
