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J-GLOBAL ID：200903034221117856

放電プラズマ処理装置

Inventor： 大野 毅之
Applicant, Patent owner： 積水化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002377332
Publication number (International publication number)：2004207145
Application date： Dec. 26, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】リモート方式の放電プラズマ処理装置に用いられる放電電極において、放電時における電極本体の撓みをなくす。【解決手段】互いに対向する一対の電極本体2,3間に、ガスの通過が可能な連通孔を有する多孔質誘電体4を挟み、その多孔質誘電体4をガス流路兼プラズマ発生空間とすることにより、放電プラズマを発生するのに必要なガス流量を実現しながら、放電時において電極本体2,3間に作用するクーロン力による電極本体2,3の撓みを防止する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

放電プラズマ処理装置であって、互いに対向する一対の電極と、ガスの通過が可能な連通孔を有する多孔質誘電体と、前記一対の電極間に電界を印加する電源を備え、前記多孔質誘電体が前記一対の電極間に挟み込まれてなり、放電処理用ガスが前記多孔質誘電体を通過して被処理体に接触するようになされていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (3)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C08J7/00

FI (4)：

H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C08J7/00 306 ,  C08J7/00

F-Term (36)：

4F073AA01 ,  4F073AA02 ,  4F073AA14 ,  4F073AA23 ,  4F073BA07 ,  4F073BA08 ,  4F073BA16 ,  4F073BA18 ,  4F073BA19 ,  4F073BA24 ,  4F073BA25 ,  4F073BA26 ,  4F073BA29 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4F073CA07 ,  4F073CA08 ,  4G075AA22 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BA10 ,  4G075BC01 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA15 ,  4G075CA25 ,  4G075CA26 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075EE12 ,  4G075FA14 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  4G075FC15