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J-GLOBAL ID：200903034288915293

溶射膜の形成方法

Inventor： 永田 雅克 ,  小野 幹幸 ,  加治 功 ,  中島 武憲
Applicant, Patent owner： 株式会社フジクラ
Agent (1)： 渡辺 丈夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993018218
Publication number (International publication number)：1994207264
Application date： Jan. 08, 1993
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：

【要約】【目的】 溶射ターゲット上に高品質な溶射膜を容易に形成できる溶射膜の形成方法を提供する。【構成】 溶射流12の周辺部を遮る遮蔽手段13を溶射ガン11に取り付け、この溶射ガン11または溶射ターゲット14のいずれか一方を他方に対して平行に移動しつつ、この溶射ガン11により溶射ターゲット14上に溶射を行う。遮蔽手段13により、溶射流12のうち高温・高速であり、かつ温度と速度が均一な溶射流のみを溶射ターゲット14上に溶射ができ、かつ溶射ガン11等の平行移動により必要な部分への溶射が充分にできるため、この溶射ターゲット14上に高品質な溶射膜16を容易に形成できる。

Claim (excerpt)：

溶射ガンから噴射された溶射流によって、この溶射ガンから一定距離離れた溶射ターゲット上に溶射膜を形成する溶射膜の形成方法において、前記溶射流の周辺部を遮る遮蔽手段を前記溶射ガンに取り付け、該溶射ガンまたは前記溶射ターゲットのいずれか一方を他方に対して平行に移動しつつ、この溶射ガンにより前記溶射ターゲット上に溶射を行うことを特徴とする溶射膜の形成方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭56-108564
  
• 特開昭64-017832
  
• 特開昭63-145762