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J-GLOBAL ID：200903034299403332

ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物、これを用いた電着塗装浴及びレジストパターンの製造法

Inventor： 立木 繁雄 ,  廣 昌彦 ,  赤堀 聡彦 ,  加藤 琢郎 ,  角丸 肇 ,  南 好隆 ,  山崎 雄治 ,  高橋 俊哉 ,  塩谷 俊彦 ,  長島 義久
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社 ,  大日本塗料株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991267590
Publication number (International publication number)：1994016978
Application date： Oct. 16, 1991
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 電着性が良好で、現像残りが大幅に低減された、高解像度なネガ型感光性電着塗料樹脂組成物を提供する。【構成】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸を共重合した酸価20〜300のポリマーを塩基性の有機化合物で中和したポリマー、(b)光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する非水溶性モノマー、(c)非水溶性光開始剤、並びに(d)下記一般式(I)及び/又は(II)で表わされる化合物(式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基等、R2は、水素原子、水酸基、アルキル基等、nは、1〜3の整数(ただしR2中にカルボキシル基を有する場合には0でもよい)を示す)(式中、R1は、一般式(I)のR1と同意義であり、R4は、水素原子、アルキル基又はフェニル基を示し、nは、1〜3の整数を示す)を含有してなるネガ型感光性電着塗料樹脂組成物、これを用いた電着塗装浴及びレジストパターンの製造法。

Claim (excerpt)：

(a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸を共重合した酸価20〜300のポリマーを塩基性の有機化合物で中和したポリマー、(b)光重合性不飽和結合を分子内に2個以上有する非水溶性モノマー、(c)非水溶性光開始剤、並びに(d)下記一般式(I)及び/又は(II)で表わされる化合物【化1】(式中、R1は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基又はアルコキシ基を示し、R2は、水素原子、水酸基、アルキル基、エステル基、フェニル基又は-X-R3(ただしXはカルボキシル基で置換されてもよいアルキレン基、シクロアルキレン基又はアルキレンエーテル基でありR3は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基又はジアルキルアミノ基である)を示し、nは、1〜3の整数(ただしR2中にカルボキシル基を有する場合には0でもよい)を示す)【化2】(式中、R1は、一般式(I)のR1と同意義であり、R4は、水素原子、アルキル基又はフェニル基を示し、nは、1〜3の整数を示す)を含有してなるネガ型感光性電着塗料樹脂組成物。

IPC (7)：

C09D 5/44 PRS ,  C08F 2/48 MDH ,  C09D 4/02 PDW ,  C09D133/02 PFW ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/085 ,  H05K 3/00