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J-GLOBAL ID：200903034386233281

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 五十嵐 美和 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  倉光 庸子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993056256
Publication number (International publication number)：1994266105
Application date： Mar. 17, 1993
Publication date： Sep. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ネガ型レジスト組成物に関し、解像度の優れた短波長紫外線或いは電子線用レジストを提供することを目的とする。【構成】 化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマと、非化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマ例えばヒドロキシスチレンとクロロメチルスチレンとを共重合させてアルカリ可溶性をもつ共重合体を作り、該共重合体を基材樹脂とし、酸発生剤と架橋剤を加えてネガ型レジスト組成物を構成する。

Claim (excerpt)：

化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマと、非化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマとを共重合させててアルカリ可溶性をもつ共重合体を作り、該共重合体を基材樹脂とし、酸発生剤と架橋剤を加えてなることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 ,  C08F212/14 MJY ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  C09D125/18 PFB