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J-GLOBAL ID：200903034392806374

硫化亜鉛系薄膜とこれを用いた光記録媒体

Inventor： 上野 崇 ,  野口 幸雄
Applicant, Patent owner： 株式会社フルヤ金属 ,  京セラ株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999373822
Publication number (International publication number)：2001189035
Application date： Dec. 28, 1999
Publication date： Jul. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 硫化亜鉛よりも高い屈折率を有する薄膜を提供して、相変化型の光記録媒体の保護層を提供し、その薄層化とそれによる熱的安定性を確保し、従来に比して低い抵抗率を有する薄膜形成用材料を提供して、特に、相変化型の光記録媒体に使用する保護層を提供し、その薄膜生産性を高める。【解決手段】 薄膜を、主成分としての硫化亜鉛と、酸化ニオブとを含有して成る硫化亜鉛系から形成し、特に、硫化亜鉛系薄膜中の酸化ニオブの含有量を、Nb2O5換算で10〜30重量%の範囲として、薄膜に高い屈折率を付与し、特に、400nm波長光での屈折率が2.5以上とする。さらに、酸化ニオブの添加により、原料焼結体を低い電気抵抗率にして、この焼結体を直流スパッターにより薄膜に形成するのを容易にする。このような薄膜は、光記憶媒体において、レーザ光の照射信号を相変化として記録する合金相の記録層を被覆して保護する保護層に利用する。

Claim (excerpt)：

硫化亜鉛を主成分とし、酸化ニオブを含有して成る硫化亜鉛系薄膜。

IPC (3)：

G11B 7/24 534 ,  C01G 9/08 ,  C23C 14/00

FI (3)：

G11B 7/24 534 N ,  C01G 9/08 ,  C23C 14/00 D

F-Term (18)：

4K029AA08 ,  4K029AA09 ,  4K029BA43 ,  4K029BA51 ,  4K029BC08 ,  4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC34 ,  4K029DC35 ,  5D029LA14 ,  5D029LA15 ,  5D029LA17 ,  5D029LA19 ,  5D029LB01 ,  5D029LB07 ,  5D029LC06 ,  5D029LC21