Pat
J-GLOBAL ID:200903034397282683
共振トンネル電界効果トランジスタ
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大貫 進介 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997094564
Publication number (International publication number):1998032336
Application date: Mar. 28, 1997
Publication date: Feb. 03, 1998
Summary:
【要約】【課題】 共振トンネル電界効果トランジスタが提供される。【解決手段】 シリコン・ベースの材料系で形成され、第1導電接点24,第2導電接点30および制御接点26を含む共振トンネル電界効果トランジスタ10であって、共振トンネル・デバイス14は、電界効果トランジスタ12の第2導電接点30の上に動作可能な形で配置され、外部的にアクセス可能な接点40を確定する。共振トンネル・デバイス14は、シリコン・ベースの材料でも、またはIIIー Vベースの材料でも可能である。
Claim (excerpt):
共振トンネル電界効果トランジスタであって:シリコン・ベースの材料系で形成され、第1導電接点(20,24),第2導電接点(18,30),および制御接点(26)を含む電界効果トランジスタ(12);および、前記電界効果トランジスタ(12)の前記第2導電接点(18,30)の上に動作可能な形で配置され、外部的にアクセス可能な接点(40)を確定するる共振トンネル・デバイス(14);によって構成されることを特徴とするトランジスタ。
IPC (2):
FI (2):
H01L 29/78 301 J
, H01L 29/66
Return to Previous Page