細溝形成方法及びそれによって得られた細溝基板

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：稲毛諭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005024641
Publication number (International publication number)：2006215052
Application date： Feb. 01, 2005
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：

【課題】レーザビームを用いた既存の露光装置により、従来よりも更に細い溝を安定に形成するための細溝形成方法及びそれによって得られた細溝基板を提供する。【解決手段】露光溝間8に対応する転写溝間の幅と凝集体7に対応する転写溝間の幅とをほぼ等しくし、更に、各凝集体7に対応する転写溝間のエッジ部とそのエッジ部に隣接する露光溝間8に対応する転写溝間のエッジ部との距離を露光溝4に対応する範囲内においてすべてほぼ等しくしている。これにより、実質露光溝4のトラックピッチ(Tp)に対して半分以下の狭いトラックピッチ(tp)の転写溝9が形成できることになり、さらに露光溝幅(D)の半分よりも狭い転写溝幅(d)が得られる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基板にレジストを塗布する工程と、該レジストにレーザビームを照射し、その後現像手段により露光溝を形成する工程と、該露光溝内に露光溝の長手方向に沿って連続した高分子の凝集体を形成する工程と、該凝集体をマスクにして基板に露光溝よりも細い溝(転写溝)を形成する工程と、残存の該レジストおよび該凝集体を除去する工程とを少なくとも具備した細溝形成方法において、基板上に形成された、該露光溝間に対応する転写溝間の幅と該凝集体に対応する転写溝間の幅とがほぼ等しいことを特徴とする細溝形成方法。

IPC (2)：

G03F 7/40 , G11B 7/26

FI (2)：

G03F7/40 521 , G11B7/26 501

F-Term (16)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096AA28 , 2H096AA30 , 2H096EA04 , 2H096GB10 , 2H096HA23 , 2H096JA04 , 5D121BB05 , 5D121BB06 , 5D121BB07 , 5D121BB31 , 5D121BB33 , 5D121EE21 , 5D121GG04 , 5D121GG11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

米国特許第5,121,256号

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