Pat

J-GLOBAL ID：200903034445695391

電子ビーム描画装置

Inventor： 太田 洋也 ,  松坂 尚
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995027879
Publication number (International publication number)：1996195345
Application date： Feb. 16, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：

【要約】【構成】焦点および非点の補正を高速に行う部分と比較的低速に行う部分に分離して、それぞれ静電型と電磁型の補正器に割り当てる。例えば試料11の高さ変動は、試料高さ検出器13により検出され、高さ制御装置14を経て電磁焦点補正器10で補正される。また、偏向に伴う焦点補正は偏向制御装置15から出力される偏向量によって、静電焦点補正器9で補正される。【効果】高速描画を行うことができる。また、加工精度が向上し、高精度な描画が可能となる。

Claim (excerpt)：

電子ビームを放射する電子源と前記電子源の像または絞りの像を結像し試料上に投影する電子光学系と前記試料上での前記電子ビームの位置を決定する偏向器と前記電子光学系の焦点位置を変えることのできる静電レンズ型と電磁レンズ型の焦点補正器とを具備する電子ビーム描画装置において、前記試料の高さ変動による焦点ずれを電磁レンズ型の焦点補正器で補正し、電子ビームの偏向に伴う像面湾曲を静電レンズ型の焦点補正器で補正することを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (8)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/21 ,  H01J 37/305