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J-GLOBAL ID：200903034458446404
フォトリフレクタンス測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西岡 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993185416
Publication number (International publication number)：1995043294
Application date： Jul. 28, 1993
Publication date： Feb. 14, 1995
Summary：
【要約】【目的】 励起光の散乱光やフォトルミネセンンス光の影響を除去し、正確なフォトリフレクタンス・スペクトルを測定する。【構成】 励起光R1 の変調周期よりも充分に長い周期で、プロ-ブ光P1 を変調して、試料4に照射する。その反射光H1 から分光器10で特定波長を選別し、検出器11でその波長に対する反射強度を検出し、ハイパスフィルタ12a、ロ-パスフィルタ12bを介して、ロックインアンプ14に入力する。一方、ロックインアンプ14には、制御回路13で制御された変調チョッパA2の変調周期信号が入力され、この変調周期に等しい反射光強度成分が得られる。
Claim (excerpt)：
試料にプロ-ブ光を照射するプロ-ブ光源と、試料に励起光を照射する励起光源と、励起光を変調する励起光変調チョッパと、試料からの反射光を検出する検出器とを備えたフォトリフレクタンス測定装置において、プロ-ブ光源と試料との間に変調チョッパを設けたことを特徴とするフォトリフレクタンス測定装置。
IPC (3)：
G01N 21/27
, G01N 21/00
, G01N 21/63
