Pat

J-GLOBAL ID：200903034512792801

放射線感受性コポリマー、そのフォトレジスト組成物およびその深UV二層システム

Inventor： パトリック・フォスター ,  ジョン・ジョウゼフ・ビアフォーア ,  グレゴリー・ドメニク・スパツィアーノ
Applicant, Patent owner： アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド
Agent (1)： 高木 千嘉 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001525472
Publication number (International publication number)：2003518524
Application date： Aug. 11, 2000
Publication date： Jun. 10, 2003
Summary：

【要約】【課題】 深UVフォトリトグラフィーで使用するための二層システム中のトップ層で使用するための放射線感受性樹脂の提供。【解決手段】 この放射線感受性樹脂は、式【化1】(式中、nは1〜5の整数であり、R1はメチルまたはトリメチルシロキシであり、R2は第3-ブチル基であり、R3、R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはメチル基である)の構造単位を有するコポリマーを含むことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

式 【化1】(式中、nは1〜5の整数であり、R1はメチルまたはトリメチルシロキシであり、R2は第3-ブチル基であり、R3、R4およびR5はそれぞれ独立して水素またはメチル基である)の構造単位を含む放射線感受性コポリマー。

IPC (6)：

C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08F230/08 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027

FI (6)：

C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08F230/08 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (21)：

2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025DA40 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AJ02T ,  4J100AK32P ,  4J100AL03R ,  4J100AL03S ,  4J100AP16Q ,  4J100BA72Q ,  4J100BA80Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38