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J-GLOBAL ID:200903034526984118
磁気ディスク及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
篠原 泰司 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991344783
Publication number (International publication number):1993182169
Application date: Dec. 26, 1991
Publication date: Jul. 23, 1993
Summary:
【要約】【目的】 記憶容量の大容量化を達成するのに十分な静磁気特性を備えた磁気ディスク及びその製造方法を提供する。【構成】 非磁性基板上に、実質的にCrから成る第一層とCoを主成分とする磁気記録媒体である第二層とが積層されて成り、この第一層を形成する結晶の<100>面が上記基板に対して実質的に平行に配向されていることを特徴とする磁気ディスク。かかる磁気ディスクの上記第一層の成膜は、基板と成膜装置のチャンバーとの間に、基板の電位が成膜装置のチャンバーの電位に対し100乃至300Vの負となるように電位差を与えて行う。
Claim (excerpt):
非磁性基板上に、実質的にCrから成る第一層とCoを主成分とする磁気記録媒体である第二層とが積層されて成る磁気ディスクにおいて、該第一層を形成する結晶の<100>面が上記基板に対して実質的に平行に配向されていることを特徴とする磁気ディスク。
IPC (5):
G11B 5/66
, C23C 14/14
, C23C 14/34
, G11B 5/82
, G11B 5/85
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