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J-GLOBAL ID：200903034533844186

ポリスチレン系樹脂組成物

Inventor： 足助 哲也 ,  大竹 功 ,  松岡 正己
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 寺田 實
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992274408
Publication number (International publication number)：1994122796
Application date： Oct. 13, 1992
Publication date： May. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ポリスチレン系樹脂の紫外線劣化域に適合した優れた紫外線吸収能を有すると共に、ポリスチレン系樹脂との相溶性が良好で、熱的、化学的安定性の良い紫外線吸収剤を配合した耐候性の優れたポリスチレン系樹脂組成物を提供することを目的とする。【構成】 ポリスチレン系樹脂にモノマー単位が式(1)【化1】(但し、式中R1 、R2 は置換または未置換の線状又は分岐状アルキル基、アリール基、アラルキル基である。)であるポリシラン構造を有する有機ケイ素高分子を配合して成ることを特徴とするポリスチレン系樹脂組成物。【効果】 本発明のポリスチレン系樹脂組成物はポリスチレン系の紫外線劣化波長である300〜400nmの紫外線に対して優れた紫外線吸収能を有すると共に、熱的、化学的安定性を有し、高温での加工、使用において揮散しない上、ポリスチレン系樹脂との相溶性が高く、長期にわたって優れた耐候性を有する。

Claim (excerpt)：

ポリスチレン系樹脂にモノマー単位が式(1)【化1】(但し、式中R1 、R2 は置換または未置換の線状又は分岐状アルキル基、アリール基、アラルキル基である。)であるポリシラン構造を有する有機ケイ素高分子を配合して成ることを特徴とするポリスチレン系樹脂組成物。

IPC (2)：

C08L 25/04 LEF ,  C08L 83/16 LRY