Pat
J-GLOBAL ID:200903034541203874
足コンディショニングウエア
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大和田 和美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006108790
Publication number (International publication number):2007277779
Application date: Apr. 11, 2006
Publication date: Oct. 25, 2007
Summary:
【課題】足裏のアーチを維持することで、足首の安定性を高め、足の疲れを少なくする。【解決手段】足裏部で足指の付け根位置あるいは足指の付け根から所要寸法隔てた位置から足裏中央部を越えて踵側へと向けて縦方向に配置した足裏高パワー部21を設けると共に、少なくとも足指両端の親指と小指に連続して縦方向に互いに平行な足裏低パワー部22を設け、着用状態で土踏まずの部分が縦アーチAと横アーチBを形成している。【選択図】図1
Claim (excerpt):
足裏部で足指の付け根位置あるいは足指の付け根から所要寸法を隔てた位置から足裏中央部を越えて踵側へと向けて縦方向に延在する足裏高パワー部を設けると共に、少なくとも親指に連続して縦方向に延在する足裏低パワー部を前記足裏高パワー部と平行に設け、
着用状態で土踏まずの部分が縦アーチと横アーチを形成する構成としていることを特徴とする足コンディショニングウエア。
IPC (1):
FI (2):
A41B11/00 D
, A41B11/00 G
F-Term (3):
3B018AA03
, 3B018AB07
, 3B018AC01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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実開平8-156号公報
-
実開平7-33913号公報
-
パット及びこのパットを用いた靴下
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-296880
Applicant:斎藤辰雄
-
足のバランス矯正靴下
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-105489
Applicant:笠原巖
-
足裏の凹凸を正常に整える靴下
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-079681
Applicant:笠原巖
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Cited by examiner (3)
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パット及びこのパットを用いた靴下
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-296880
Applicant:斎藤辰雄
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足のバランス矯正靴下
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-105489
Applicant:笠原巖
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足裏の凹凸を正常に整える靴下
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-079681
Applicant:笠原巖
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