透明導電膜およびその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：米田潤三 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995250247
Publication number (International publication number)：1997071857
Application date： Sep. 04, 1995
Publication date： Mar. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】加熱やプラズマ等の影響により変質、劣化、熱分解を生じたり脱ガスを生じるような耐熱性および耐プラズマ性の低い基材上に成膜される低抵抗で透明性が高くパターニング特性に優れる透明導電膜と、このような透明導電膜を簡便に形成することができる製造方法を提供する。【解決手段】透明導電膜は、結晶粒を有しX線回折法における(222)面のピーク強度I1 と(400)面のピーク強度I2 との比I1 /I2 が5以上であり、かつ比抵抗が0.8×10-4〜3.5×10-4Ω・cmの範囲である透明導電膜で、このような透明導電膜を、フォロカソード型イオンプレーティング法を用い、蒸着源と基材との間にプラズマを形成し、このプラズマにより基材が悪影響を受けないような条件で基材上に成膜する。

Claim (excerpt)：

耐熱性および耐プラズマ性の低い基材上に設けられる透明導電膜において、結晶粒を有し、X線回折法における(222)面のピーク強度I1 と(400)面のピーク強度I2 との比I1 /I2 が5以上であるとともに、比抵抗が0.8×10-4〜3.5×10-4Ω・cmの範囲であることを特徴とする透明導電膜。

IPC (2)：

C23C 14/08 , H01B 13/00 503

FI (2)：

C23C 14/08 D , H01B 13/00 503 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開平4-280967
透明導電膜及びその形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-055393 Applicant：株式会社日立製作所

Return to Previous Page