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J-GLOBAL ID：200903034634217522

ポジ型レジスト組成物、サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

Inventor：
古谷 早苗

About 古谷 早苗

, 
羽田 英夫

About 羽田 英夫

, 
中川 裕介

About 中川 裕介

, 
山崎 晃義

About 山崎 晃義


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005307688
Publication number (International publication number)：2007114613
Application date： Oct. 21, 2005
Publication date： May. 10, 2007
Summary：
【課題】ArFエキシマレーザーリソグラフィー等に使用されるレジスト組成物を用いたサーマルフロープロセスにおいて、レジストパターンサイズの制御性に優れるサーマルフロー用に適したポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】樹脂成分(A)と、酸発生剤成分とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分は、第三級アルキル基を含む酸解離性溶解抑制基を有する(メタ)アクリレート構成単位(a0)と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a2)とを含む高分子化合物(A1)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)は、下記一般式(a0)
IPC (5)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (5)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/40 511 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
F-Term (42)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA15R ,  4J100BA22P ,  4J100BA23R ,  4J100BC02R ,  4J100BC03R ,  4J100BC04R ,  4J100BC07P ,  4J100BC07R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC12R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (5)
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