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J-GLOBAL ID：200903034645689132
アライメント装置の調整方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992146368
Publication number (International publication number)：1993315214
Application date： May. 13, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 色収差を補償するための補正光学素子が配置された部材の位置決めを容易且つ高精度に行う。【構成】 投影光学系21の内部に補正光学素子1a〜1cが形成された透明部材5を配置する。ウエハステージ19上のウエハの近傍に基準マーク42を形成し、アライメント用の顕微鏡43から投影光学系21を介してアライメント用の光束4a,4bを基準マーク42に照射する。基準マーク42から戻される干渉ビーム4cの強度が最大になるように透明部材5の位置決めを行う。
Claim (excerpt)：
アライメントマーク及び転写用のパターンが形成されたマスク上の前記パターンを露光光のもとで投影光学系を介してステージ上に載置されアライメントマークが形成された感光基板上に転写する露光装置に設けられ、前記露光光とは異なる波長帯のアライメント光を前記投影光学系を介して前記感光基板のアライメントマークに照射する照射手段と、該アライメントマークからのアライメント光を前記投影光学系を介して検出して受光信号を発生する検出手段と、前記投影光学系のほぼ瞳面内に配置された保持基板上に形成され前記アライメント光に対して前記投影光学系により発生する色収差を補償する補正光学素子とを有し、前記マスク及び前記感光基板に形成されたアライメントマークを前記アライメント光で照明することにより前記マスクと前記感光基板との相対的な位置合わせを行うアライメント装置における前記保持基板の位置決め状態の調整方法であって、前記感光基板を載置するステージ上に基準マークを形成し、該基準マークを前記投影光学系の露光領域内の所定の位置に設定した状態で、前記基準マークを前記照射手段により前記アライメント光で前記投影光学系を介して照明し、前記基準マークからのアライメント光を前記投影光学系を介して前記検出手段で検出し、該検出手段から発生される受光信号が所定の状態になるように前記保持基板の位置決めを行う事を特徴とするアライメント装置の調整方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 301 M
, H01L 21/30 311 M
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (2)
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