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J-GLOBAL ID：200903034662158361

脱離ガス分析装置

Inventor： 水野 昌子 ,  青山 隆
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 鵜沼 辰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994226479
Publication number (International publication number)：1996094505
Application date： Sep. 21, 1994
Publication date： Apr. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 固体材料の局所部分(結晶粒界、欠陥など)にトラップされているガス成分を正確に分析する。【構成】 試料4に対して、電子銃6から電子線24を照射する。このとき、電子線24を対物レンズ8で集束させて試料4に照射し、試料の一部分を加熱する。加熱された試料4の一部分からはガスが放出されるので、この放出ガスを質量分析計20で分析する。また、試料4の加熱された一部分から放射される赤外線を、探針11、光ファイバ15を介して赤外線検出器16で検出し、その赤外線データを温度計本体17に送る。温度計本体17では赤外線データから試料4の表面温度を求め、その結果に基づいて、制御装置18は電子線24の強度を調節して試料4表面の加熱温度を制御する。

Claim (excerpt)：

真空容器と、前記真空容器内に収納された試料に対して、電子線、赤外線またはレーザ光線を集束させて照射し試料の一部分を加熱する加熱手段と、前記試料の加熱された一部分から放出されるガスを分析する分析手段と、を具備する脱離ガス分析装置。

IPC (2)：

G01N 1/22 ,  G01N 33/20