Pat
J-GLOBAL ID：200903034670279402

3次元描画モデル生成方法、3次元モデル描画方法及びそのプログラム

Inventor：
橋間 正芳

About 橋間 正芳

, 
佐藤 裕一

About 佐藤 裕一


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (2)： 林 恒徳 ,  土井 健二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004086077
Publication number (International publication number)：2005275646
Application date： Mar. 24, 2004
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：
【課題】3次元モデルをテクスチャー画像で描画するための3次元描画モデル生成方法に関し、テクスチャーモデルのポリゴン数を削減し、円滑な描画を行う。【解決手段】3次元ポリゴンモデル(20)から3次元モデルの外観形状を簡略化して、細かな凹凸を取り除いて、表面を平坦化したモデル(70)を作成し、モデル(70)のテクスチャーを3次元モデル(20)から取得する。3次元ポリゴンモデル(20)から平坦化モデル(70)を作成するので、ポリゴン数を削減して、円滑な描画が可能となる。このため、複雑なモデルを円滑且つリアルタイムで描画できる。【選択図】図5
Claim (excerpt)：
3次元モデルをテクスチャー画像で描画するためのテクスチャーモデルを生成する3次元描画モデル生成方法において、 前記3次元モデルの表面を平坦化するステップと、 前記平坦化した面のテクスチャー画像を前記3次元モデルの描画画像から取得するステップと、 前記平坦化した面のポリゴンと前記テクスチャー画像とで前記テクスチャーモデルを生成するステップとを有する ことを特徴とする3次元描画モデル生成方法。
IPC (3)：
G06T17/00 ,  G06T15/00 ,  G06T17/40
FI (3)：
G06T17/00 ,  G06T15/00 300 ,  G06T17/40 A
F-Term (11)：
5B050BA09 ,  5B050BA18 ,  5B050CA07 ,  5B050DA02 ,  5B050EA12 ,  5B050EA28 ,  5B050FA02 ,  5B050FA08 ,  5B080AA14 ,  5B080FA00 ,  5B080GA22
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM