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J-GLOBAL ID：200903034687595952

磁場応用装置

Inventor： 横山 彰一 ,  遠藤 政治 ,  金子 裕治 ,  小川 篤史
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社 ,  住友特殊金属株式会社
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999163646
Publication number (International publication number)：2000353633
Application date： Jun. 10, 1999
Publication date： Dec. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】 定常磁場中で磁性体を移動させる際の電磁力の影響を軽減して移動を容易にし得る磁場応用装置を得る。【解決手段】 磁場勾配を有する定常磁場を発生する定常磁場発生部4と、定常磁場発生部4内に磁性体2を磁場勾配を通して出し入れする移動機構5とを備え、定常磁場発生部4は、主磁場を発生する主コイル6と、主コイル6と同軸的に配置され主磁場と同方向の緩和磁場を発生して磁場勾配を緩和する副コイル7とを備えたものである。

Claim (excerpt)：

磁場勾配を有する定常磁場を発生する定常磁場発生部と、該定常磁場発生部内部に磁性体を磁場勾配を通過して出し入れする移動機構とを備え、前記定常磁場発生部は、主磁場を発生する超電導コイルからなる主コイルと、該主コイルの磁場勾配を緩和する磁場勾配緩和手段とを有している磁場応用装置。

IPC (4)：

H01F 41/02 ,  B22F 3/087 ,  B30B 11/00 ,  H01F 6/00 ZAA

FI (4)：

H01F 41/02 G ,  B30B 11/00 A ,  B22F 3/02 H ,  H01F 7/22 ZAA Z

F-Term (6)：

4K018CA04 ,  4K018CA12 ,  5E062CC02 ,  5E062CE04 ,  5E062CE07 ,  5E062CF05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-064498
  
• 圧縮成形装置および圧縮成形方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-065162   Applicant：セイコーエプソン株式会社