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J-GLOBAL ID:200903034727380989

半田材料及びそれを用いた電子部品

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 池内 寛幸 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996275087
Publication number (International publication number):1998118783
Application date: Oct. 17, 1996
Publication date: May. 12, 1998
Summary:
【要約】【課題】 パラジウム(Pd)を0.005-3.0重量%、錫(Sn)を97.0-99.995重量%含有した組成を有し、かつ液相線温度が200-350°Cである半田材料とすることにより、無鉛で熱疲労性能を向上させ、環境に優しくかつ、電子機器の信頼性を向上させる無鉛高温半田材料を提供する。【解決手段】 Sn地金とPdを所定量配合し、真空溶解した後鍛造してインゴットを得、圧延してテープとし、プレス加工して半田ペレットに仕上げる。好ましい組成は、Snを95.0重量%以上、Pdを0.005-3.0重量%含有させ、更に平均粒子直径が40μm前後のNi,Cu等の金属または合金粒子を0.1-5.0重量%加える。ICチップ5の下面のNiめっき4とダイ1表面のNiめっき2とを介して、基板とチップ状の電子素子である半導体のICチップ5とが半田材料3でほぼ平行に接続(ダイボンド)されている。
Claim (excerpt):
パラジウム(Pd)を0.005〜3.0重量%、錫(Sn)を97.0〜99.995重量%含有した組成を有し、かつ液相線温度が200〜350°Cである半田材料。
IPC (3):
B23K 35/26 310 ,  H01L 21/52 ,  H05K 3/34 512
FI (3):
B23K 35/26 310 A ,  H01L 21/52 E ,  H05K 3/34 512 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-174527

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