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J-GLOBAL ID：200903034776662159

光学用材料用組成物、光学用材料およびその製造方法

Inventor：
藤田 雅幸

About 藤田 雅幸

, 
大内 克哉

About 大内 克哉

, 
坂本 晴美

About 坂本 晴美

, 
津村 学

About 津村 学


Applicant, Patent owner：
鐘淵化学工業株式会社

About 鐘淵化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001033500
Publication number (International publication number)：2002234986
Application date： Feb. 09, 2001
Publication date： Aug. 23, 2002
Summary：
【要約】【課題】光学的透明性が高くかつ耐候性に優れる光学用材料用組成物、光学用材料、その製造方法を提供すること。【解決手段】(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)エポキシ樹脂、(E)非アミン系エポキシ樹脂用硬化剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量を75重量%以下にする。
Claim (excerpt)：
(A)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する有機系骨格からなる有機化合物、(B)1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有するケイ素化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、(D)エポキシ樹脂、(E)非アミン系エポキシ樹脂用硬化剤、を必須成分とする組成物であって、フェノール性水酸基および/あるいはフェノール性水酸基の誘導体を有する化合物の含有量が75重量%以下である光学用材料用組成物。
IPC (6)：
C08L 63/00 ,  C08K 3/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/05 ,  C08L101/02 ,  G02B 1/04
FI (6)：
C08L 63/00 A ,  C08K 3/08 ,  C08K 5/00 ,  C08L 83/05 ,  C08L101/02 ,  G02B 1/04
F-Term (30)：
4J002AA03X ,  4J002CD01W ,  4J002CD02W ,  4J002CD03W ,  4J002CD05W ,  4J002CD06W ,  4J002CD12W ,  4J002CD13W ,  4J002CD17W ,  4J002CP04Y ,  4J002DA077 ,  4J002EA016 ,  4J002EA026 ,  4J002EA056 ,  4J002EA066 ,  4J002EC018 ,  4J002EC078 ,  4J002ED056 ,  4J002EG098 ,  4J002EJ018 ,  4J002EJ026 ,  4J002EJ036 ,  4J002EX038 ,  4J002EZ008 ,  4J002FD140 ,  4J002FD148 ,  4J002FD20X ,  4J002FD20Y ,  4J002FD206 ,  4J002FD207
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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