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J-GLOBAL ID：200903034782794903

光導波膜及び光導波路の製造方法

Inventor： 井本 克之
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992163006
Publication number (International publication number)：1994002105
Application date： Jun. 22, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 本発明の目的は、高屈折率の光導波路用コア膜を、低屈折率層を有する基板上に反りを小さく成膜でき、かつその膜厚及び屈折率の制御が容易で、不純物含有の虞のない透過率の良い膜を成膜する新規な光導波膜及び光導波路の製造方法を提供するものである。【構成】 本発明は真空チャンバー内上方部に基板を配置してこれを加熱すると共に、該基板の下方部にSi3 N4 のタブレットを収容した蒸発源を配置した後、上記真空チャンバー内にO2 ガスを導入しつつ、上記タブレットに電子ビームを照射してこれを蒸発させて上記基板上にSix Oy Nz の光導波膜を形成することを特徴としている。

Claim (excerpt)：

真空チャンバー内上方部に基板を配置してこれを加熱すると共に、該基板の下方部にSi3 N4 のタブレットを収容した蒸発源を配置した後、上記真空チャンバー内にO2 ガスを導入しつつ、上記タブレットに電子ビームを照射してこれを蒸発させて上記基板上にSix Oy Nz の光導波膜を形成することを特徴とする光導波膜の製造方法。

IPC (2)：

C23C 14/06 ,  G02B 6/12