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J-GLOBAL ID：200903034803751908

エチレン除去装置

Inventor： 松村 憲明 ,  佐藤 仁宣 ,  森 義高 ,  本田 秀雄
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 坂間 暁 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995173304
Publication number (International publication number)：1997023815
Application date： Jul. 10, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 長期間安定したオゾン濃度の測定ができる安価な装置を実現する。【解決手段】 その内部がオゾン処理器104により上下に分割され、下部の触媒前室107に紫外線ランプ103で設けられたエチレン除去装置において、上部触媒後室111に配設されバンドパスフィルタ113とハーフミラー114と第1と第2の受光素子115,116が設けられ触媒後室111の空気が内部を通過するオゾン濃度測定装置112と、上記紫外線ランプ103が発光した光をオゾン濃度測定装置112に入射させる反射鏡110とを備え、第1と第2の受光素子115,116が受光する光の強度によりオゾン濃度を測定するものとしたことによって、紫外線ランプの光を利用するため、安価に残留オゾンの濃度を測定できる装置を実現する。

Claim (excerpt)：

エチレン除去時に発生するオゾンを触媒を用いて処理する紫外線ランプを用いたエチレン除去装置において、オゾン発生用ランプをガス濃度測定用光源として用い、紫外線ランプより発生した光を反射鏡を用いて装置内で方向転換させ、透過石英ガラス窓を通して触媒後室に導くと共に、触媒後室に、中心波長260nmのバンドパスフィルタ、ハーフミラー、同ハーフミラーの透過光を受光する第1の受光素子及びハーフミラーからの反射光を一定の距離へだてて受光する第2の受光素子からなるオゾン濃度測定装置を設けたことを特徴とするエチレン除去装置。

IPC (3)：

A23B 7/144 ,  A01F 25/00 ,  A23B 7/152

FI (3)：

A23B 7/144 ,  A01F 25/00 C ,  A23B 7/152