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J-GLOBAL ID:200903034856163293

希土類金属錯体を用いる分析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森田 憲一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000177440
Publication number (International publication number):2001356128
Application date: Jun. 13, 2000
Publication date: Dec. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】 希土類金属錯体を用いる新規分析方法を提供する。【解決手段】 希土類金属と、前記希土類金属と一緒になって蛍光発生可能な希土類金属錯体を形成することができるリガンドとから形成される希土類金属錯体を蛍光標識物質として用いる分析工程を、有機溶媒の存在下にて行ない、遊離の希土類金属錯体由来又は分析対象物質以外の物質に結合した希土類金属錯体由来の蛍光の干渉を排除する。
Claim (excerpt):
希土類金属と、前記希土類金属と一緒になって蛍光発生可能な希土類金属錯体を形成することができるリガンドとから形成される希土類金属錯体を蛍光標識物質として用いる分析工程を、有機溶媒の存在下にて行ない、遊離の希土類金属錯体由来又は分析対象物質以外の物質に結合した希土類金属錯体由来の蛍光の干渉を排除することを特徴とする、分析方法。
IPC (6):
G01N 33/58 ,  C12Q 1/48 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 21/78 ,  G01N 33/52 ,  G01N 21/64
FI (7):
G01N 33/58 Z ,  G01N 33/58 A ,  C12Q 1/48 ,  C12Q 1/68 A ,  G01N 21/78 C ,  G01N 33/52 C ,  G01N 21/64 F
F-Term (53):
2G043AA03 ,  2G043BA16 ,  2G043CA03 ,  2G043DA02 ,  2G043DA05 ,  2G043EA01 ,  2G043EA13 ,  2G043EA18 ,  2G043EA19 ,  2G043GA07 ,  2G043GB21 ,  2G043JA01 ,  2G043LA01 ,  2G043MA01 ,  2G045AA35 ,  2G045BA01 ,  2G045BB02 ,  2G045DA12 ,  2G045DA13 ,  2G045DA14 ,  2G045DA36 ,  2G045DA54 ,  2G045FB01 ,  2G045FB02 ,  2G045FB03 ,  2G045FB05 ,  2G045FB06 ,  2G045FB07 ,  2G045FB12 ,  2G045GC15 ,  2G054AA02 ,  2G054AA06 ,  2G054AB07 ,  2G054BA01 ,  2G054BB20 ,  2G054CA22 ,  2G054CA23 ,  2G054CA30 ,  2G054CE02 ,  2G054EA03 ,  2G054GA04 ,  2G054GB02 ,  4B063QA01 ,  4B063QQ42 ,  4B063QQ79 ,  4B063QR50 ,  4B063QR58 ,  4B063QS12 ,  4B063QS16 ,  4B063QS17 ,  4B063QS34 ,  4B063QS36 ,  4B063QX02

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