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J-GLOBAL ID:200903034861860792
流体加熱装置およびそれを用いた給湯装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (3):
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006235209
Publication number (International publication number):2008057855
Application date: Aug. 31, 2006
Publication date: Mar. 13, 2008
Summary:
【課題】流体を加熱するヒーターを備えて、ケースと発熱体との取付構成において、加熱流体の漏れなどの課題を解決して、熱的安全性と合理的加工性とを両立する流体加熱装置を提供する。【解決手段】本発明の流体加熱装置は、円柱状の発熱体7と、この発熱体7に対して所定の間隙を設けて囲う円筒状ケース8とを備え、発熱体7とケース8の両端を一体的に構成したことで、熱的安全性と生産しやすい合理的加工性の両方を確保することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
円柱状の発熱体と、前記発熱体に対して所定の間隙を設けて囲う円筒状ケースと、前記発熱体とケースとの間隙で構成される流路と、前記流路に低温流体を取り込む流入口と、前記流路の高温流体を取り出す流出口とを備え、前記発熱体とケースの両端を一体的に構成した流体加熱装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (3):
2D038JB04
, 3L034BA13
, 3L034BA17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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人体局部洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-155743
Applicant:日立化成工業株式会社
Cited by examiner (5)
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特開昭60-026240
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流体加熱装置およびそれを用いた各種の洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-215229
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開昭60-026240
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流体加熱器及び局部洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-098758
Applicant:東陶機器株式会社
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人体局部洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-155743
Applicant:日立化成工業株式会社
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