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J-GLOBAL ID：200903034863129076

プラズマ処理装置

Inventor： 西 寛生 ,  勝山 雅則 ,  鈴木 慎一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 梶原 辰也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998295128
Publication number (International publication number)：2000124197
Application date： Oct. 16, 1998
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 カバーを発生源とする異物の発生を防止する。【解決手段】 処理室11には下部電極24を昇降させる昇降装置30の昇降軸31がチャンバ12の底壁に下から挿入されており、上端で下部電極24、ヒータ26を下から支持している。昇降軸31の上端部にはベローズ32を被覆したカバー34が取り付けられ、カバー34はアルミニウムまたはアルマイトが使用されて円筒形状に形成されている。カバー34にはポリイミド樹脂シート(防護シート)35が接着されている。【効果】 カバーがエッチングされて異物が発生するのを防護シートで防止できるため、その異物の付着によるウエハの歩留り低下を防止できる。カバーの交換作業、洗浄作業、表面加工作業を省略できるため、ドライエッチング装置のメンテナンスを簡単化でき、ドライエッチング装置の稼働率を増加できる。

Claim (excerpt)：

電極の背面空間を被覆するカバーの表面がエッチング防止部によって被覆されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 N ,  B01J 19/08 H ,  H05H 1/46 A

F-Term (30)：

4G075AA30 ,  4G075BC06 ,  4G075CA02 ,  4G075CA47 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075ED13 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  5F004AA13 ,  5F004BA04 ,  5F004BA07 ,  5F004BB13 ,  5F004BB26 ,  5F004BB29 ,  5F004BB30 ,  5F004CA05 ,  5F004CA06 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07