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J-GLOBAL ID：200903034878418783

マイクロフォーカスX線発生装置

Inventor： 浮田 昌昭 ,  田窪 健二
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 西岡 義明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000136808
Publication number (International publication number)：2001319608
Application date： May. 10, 2000
Publication date： Nov. 16, 2001
Summary：

【要約】【課題】 ターゲットの所定の位置に、容易に電子ビームを位置調整することができるマイクロフォーカスX線発生装置を提供する。【解決手段】 電子源1からグリッド電極2により、電子ビーム10が放出され、偏向器3により偏向されて電子ビーム軸が矯正される。電子ビーム10の外周部は、アパーチャ部に設けられた3分割以上の電極からなる測定板4に入射する。電子ビーム軸の偏心状態により、各分割電極の電流が異なり、その測定値により、偏向器3を調整する。さらに、ターゲット8をX線透過窓7から電気的に絶縁して、ターゲット8に流れる電流を測定しX線強度とみなし、偏向器3を調整することで、電子ビーム10をターゲット8上に位置調整することができる。

Claim (excerpt)：

陰極フィラメントから放出された電子を偏向器で方向を決め、高電圧で加速させ電子レンズで収束させて陽極ターゲットに衝突させ、X線を発生させるマイクロフォーカスX線発生装置において、電子ビームが入射するアパーチャ部に3分割以上の電流測定板を設け、その電流測定板の各電極に流れる電流を測定することができるようにしたことを特徴とするマイクロフォーカスX線発生装置。

IPC (3)：

H01J 35/14 ,  H05G 1/00 ,  H05G 1/26

FI (4)：

H01J 35/14 ,  H05G 1/26 C ,  H05G 1/26 J ,  H05G 1/00 E

F-Term (10)：

4C092AA01 ,  4C092AB12 ,  4C092AB30 ,  4C092AC08 ,  4C092BD09 ,  4C092BD16 ,  4C092BD20 ,  4C092CE07 ,  4C092CF16 ,  4C092CF50

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• X線発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-166739   Applicant：理学電機株式会社
• 特開昭61-140041
  
• 特公昭47-021954