Pat

J-GLOBAL ID：200903034886280685

液晶デバイスの製造方法

Inventor： 小川 洋 ,  栗山 毅
Applicant, Patent owner： 大日本インキ化学工業株式会社
Agent (1)： 高橋 勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992012051
Publication number (International publication number)：1993203928
Application date： Jan. 27, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】 液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を有する液晶デバイスにおいて、製造工程が少なく、且つ、液晶デバイスの抵抗値及び電圧保持率を改善する液晶デバイスの製造方法を提供する。【構成】 液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤を含有する調光層形成材料を、真空注入法を用いて注入孔を有するセルに注入し、次いで、注入孔に光硬化性封孔剤を注入した後、可視光線を照射することによって、調光層形成と封孔を同時に行う。

Claim (excerpt)：

(1)電極層を有する少なくとも一方が透明な2枚の基板から成る注入孔を有するセル中に、液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤を含有する調光層形成材料を注入する第1工程、(2)光硬化性封孔剤を注入孔に塗布する第2工程、(3)可視光線を照射して、前記光重合性組成物及び光硬化性封孔剤を重合させることによって、液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を形成すると共に、注入孔を封孔する第3工程を有することを特徴とする液晶デバイスの製造方法。

IPC (3)：

G02F 1/1333 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1341

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭51-097192
  
• 特開昭54-055993