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J-GLOBAL ID：200903034892592990

排ガス浄化方法、及び装置

Inventor： 浜田 幾久 ,  冨永 成 ,  一柳 宏
Applicant, Patent owner： バブコック日立株式会社
Agent (1)： 鵜沼 辰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993192308
Publication number (International publication number)：1995039722
Application date： Aug. 03, 1993
Publication date： Feb. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 複雑な装置構成を必要とせず、排ガスの有害、悪臭成分を確実に除去できる排ガス浄化方法及び装置とすること。【構成】 吸着用流路6と酸化用流路7を相反する方向で隣合わせに配置し、一枚の電極エレメント12に吸着剤層2と酸化触媒層3を設けたものを複数枚組合せ、これを前記吸着用流路6には吸着剤層2、酸化用流路7には酸化触媒層3となるように配置し、排ガス中に含まれる有害、悪臭成分を吸着剤に吸着させ、またエレメントを加熱することにより吸着した成分を脱離させ、酸化触媒により酸化処理できるようにしている。【効果】 単純な装置構成で、排ガスの有害、悪臭成分を確実に除去できる。

Claim (excerpt)：

吸入口から排ガスを含む気体を該吸入口に接続された気体流路に取り入れ、該取り入れた気体に含まれる有害、悪臭成分を気体流路中に配置された吸着剤層に吸着させ、必要に応じてあるいは定期的に該吸着剤層を加熱して吸着されていた前記有害、悪臭成分を脱離させ、脱離された有害、悪臭成分を前記吸着剤層の下流側気体流路に配置された酸化触媒層で酸化処理し、有害、悪臭成分が除去された前記気体を酸化触媒層のさらに気体流路下流側に配置された吐出口から放出する排ガス浄化方法において、前記吸着剤層と酸化触媒層とを連続した金属製板状の基板上の別々の領域に形成し、該連続した基板を酸化触媒層が吸着剤層の下流側になるように前記気体流路中に配置し、吸着剤層と酸化触媒層のいずれか一方を加熱することにより、他方の温度を上昇させることを特徴とする排ガス浄化方法。

IPC (5)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/04 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/94

FI (3)：

B01D 53/36 ZAB H ,  B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/36 103 Z