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J-GLOBAL ID:200903034916780939

近赤外線吸収材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小林 雅人 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000400914
Publication number (International publication number):2002200711
Application date: Dec. 28, 2000
Publication date: Jul. 16, 2002
Summary:
【要約】【課題】 従来技術の問題点を解決し、近赤外線吸収に加え、画像を不鮮明にするオレンジ光(550〜620nm領域)のみを選択的に吸収すると共に、他の可視光領域はほとんど吸収しないようにすることにより、画像を鮮明にし、同時に耐候・耐久性に優れた近赤外線吸収材料を提供する。【解決手段】 本発明の近赤外線吸収材料は、透明基材上に少なくとも、近赤外線吸収色素と550〜620nmを選択的に吸収する色素とを含有する透明樹脂塗膜を形成してなることを特徴とするか、又は、透明基材上に少なくとも、近赤外線吸収色素を含有する透明樹脂塗膜と、550〜620nmを選択的に吸収する色素を含有する粘着剤層とを、該粘着剤層が最外層となるように形成してなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
透明基材上に少なくとも、近赤外線吸収色素と550〜620nmを選択的に吸収する色素とを含有する透明樹脂塗膜を形成してなることを特徴とする近赤外線吸収材料。
IPC (10):
B32B 27/18 ,  C08J 7/04 CFD ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  C09B 23/00 ,  C09B 53/00 ,  C09B 57/10 ,  C09K 3/00 105 ,  G02B 5/22 ,  G09F 9/00 313
FI (10):
B32B 27/18 A ,  C08J 7/04 CFD Z ,  C08K 5/00 ,  C08L101/00 ,  C09B 23/00 L ,  C09B 53/00 Z ,  C09B 57/10 ,  C09K 3/00 105 ,  G02B 5/22 ,  G09F 9/00 313
F-Term (71):
2H048CA04 ,  2H048CA09 ,  2H048CA12 ,  2H048CA14 ,  2H048CA19 ,  2H048CA23 ,  2H048CA25 ,  2H048CA29 ,  4F006AA35 ,  4F006AB35 ,  4F006AB65 ,  4F006AB66 ,  4F006AB68 ,  4F006BA06 ,  4F006CA08 ,  4F100AH03B ,  4F100AH07B ,  4F100AH08B ,  4F100AK01B ,  4F100AK02A ,  4F100AK42A ,  4F100AK43A ,  4F100AK45A ,  4F100AR00A ,  4F100AR00B ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CC00B ,  4F100EH46 ,  4F100GB41 ,  4F100JL00 ,  4F100JL11C ,  4F100JN01A ,  4F100JN01B ,  4F100JN30B ,  4F100JN30C ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4H056CA01 ,  4H056CA02 ,  4H056CA05 ,  4H056CB01 ,  4H056CC02 ,  4H056CC08 ,  4H056CE03 ,  4H056CE06 ,  4H056DD03 ,  4H056FA05 ,  4J002CF061 ,  4J002CF081 ,  4J002CF161 ,  4J002CG001 ,  4J002EN137 ,  4J002EV306 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002GR00 ,  5G435AA04 ,  5G435AA11 ,  5G435AA12 ,  5G435AA13 ,  5G435AA14 ,  5G435BB06 ,  5G435GG11 ,  5G435GG31 ,  5G435GG42 ,  5G435HH02 ,  5G435HH03 ,  5G435KK07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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