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J-GLOBAL ID:200903034945596985

アブレーション加工方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 敬四郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995301425
Publication number (International publication number):1997141480
Application date: Nov. 20, 1995
Publication date: Jun. 03, 1997
Summary:
【要約】【課題】 レーザ加工時に発生したデブリの付着を防止し、良好な加工表面を得ることのできるレーザ加工技術を提供する。【解決手段】 アブレーション加工すべき被加工表面を有する対象物を準備する工程と、前記被加工表面に液体を接触させる工程と、前記液体を通して前記被加工表面にレーザ光を照射し、アブレーション加工する工程とを含む。
Claim (excerpt):
アブレーション加工すべき被加工表面を有する対象物を準備する工程と、前記被加工表面に液体を接触させる工程と、前記液体を通して前記被加工表面にレーザ光を照射し、アブレーション加工する工程とを含むアブレーション加工方法。
IPC (2):
B23K 26/12 ,  B23K 26/00
FI (2):
B23K 26/12 ,  B23K 26/00 D
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平3-062831
  • 特開平4-172191

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