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J-GLOBAL ID：200903034952759040

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor：
堤 聖晴

About 堤 聖晴


Applicant, Patent owner：
ダイセル化学工業株式会社

About ダイセル化学工業株式会社


Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001186493
Publication number (International publication number)：2002201232
Application date： Jun. 20, 2001
Publication date： Jul. 19, 2002
Summary：
【要約】【課題】 高いドライエッチング耐性、基板密着性及びアルカリ可溶性を示すと共に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)に対して溶解性の高いフォトレジスト用高分子化合物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用高分子化合物は、(A)下記式(I)で表されるモノマーユニットを22〜40モル%、(B)下記式(II)で表されるモノマーユニットを20〜38モル%、及び(C)下記式(IIIa)及び(IIIb)から選択された少なくとも1種のモノマーユニットを22〜58モル%含む。【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、炭素数1〜3のアルキル基を示す)
Claim (excerpt)：
(A)下記式(I)で表されるモノマーユニットを22〜40モル%、(B)下記式(II)で表されるモノマーユニットを20〜38モル%、及び(C)下記式(IIIa)及び(IIIb)から選択された少なくとも1種のモノマーユニットを22〜58モル%含むフォトレジスト用高分子化合物。【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、R1、R2、R3は、それぞれ独立に、炭素数1〜3のアルキル基を示す)
IPC (3)：
C08F220/28 ,  C08J 3/14 ,  G03F 7/039 601
FI (3)：
C08F220/28 ,  C08J 3/14 ,  G03F 7/039 601
F-Term (29)：
2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BC86 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4F070AA32 ,  4F070DA22 ,  4F070DC11 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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