Pat
J-GLOBAL ID：200903035018597261
光走査型二次元濃度分布測定装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤本 英夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997049694
Publication number (International publication number)：1997292365
Application date： Feb. 17, 1997
Publication date： Nov. 11, 1997
Summary：
【要約】【課題】 構成が簡単かつ高性能な光走査型二次元濃度分布測定装置を提供すること。【解決手段】 SOI基板1の一方の面に、電気的に分離された複数のセンサアレイ8からなるセンシング部5を形成するとともに、前記SOI基板1の他方の面に、SOI基板1の裏面側からプローブ光を照射するための固体発光エレメントアレイ19からなるプローブ光照射部17を設け、さらに、前記センサアレイ8から信号を取り出すためのシフトレジスタ16を前記SOI基板1を構成する半導体基板2にモノリシックに設けた。
Claim (excerpt)：
SOI基板の一方の面に、電気的に分離された複数のセンサアレイからなるセンシング部を形成するとともに、前記SOI基板の他方の面に、SOI基板の裏面側からプローブ光を照射するための固体発光エレメントアレイからなるプローブ光照射部を設け、さらに、前記センサアレイから信号を取り出すためのシフトレジスタを前記SOI基板を構成する半導体基板にモノリシックに設けたことを特徴とする光走査型二次元濃度分布測定装置。
IPC (2)：
FI (2)：
G01N 27/46 U
, H01L 33/00 L
