XYステージ装置およびこれに用いるリニアモータ

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阪本善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993066197
Publication number (International publication number)：1994254734
Application date： Mar. 02, 1993
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 XYステージ装置の位置決め精度の向上および位置決めの高速化を促進する。【構成】 XYステージ装置E1 は、台盤1に固定された案内部材8の案内面8aに沿って往復移動自在なYステージ4と、これとともに往復移動自在でありかつその中央部材4cの案内面に沿って往復移動自在なXステージ7からなり、Yステージ4は一対のYリニアモータ2,3によって移動され、Xステージ7は、Yステージ4に支持された一対のXリニアモータ5,6(Xリニアモータ6は図示せず)によって、Yステージ4の中央部材4cに沿って移動される。Yステージ4およびXステージ7はそれぞれ個別の静圧軸受パッドによって台盤1上に支持されている。

Claim (excerpt)：

台盤と、該台盤と一体である第1の案内面に沿って往復移動自在な第1の移動体と、これを移動させる第1の駆動手段と、前記第1の移動体とともに移動自在でありかつ該移動体に設けられた第2の案内面に沿って往復移動自在である第2の移動体と、該第2の移動体を前記第2の案内面に沿って移動させる第2の駆動手段からなり、前記第1および前記第2の移動体がそれぞれ個別に前記台盤上に支持されていることを特徴とするXYステージ装置。

IPC (9)：

B23Q 1/18 , B23Q 3/18 , B23Q 5/28 , B65G 49/07 , G03F 9/00 , H01L 21/027 , H01L 21/68 , H02K 41/02 , B65G 47/90

FI (2)：

H01L 21/30 301 Z , H01L 21/30 311 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特開平3-245932
特開平1-188241
特開昭62-034745

Show all

Return to Previous Page