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J-GLOBAL ID：200903035028194351

ガス発生装置

Inventor： 北原 宏一 ,  大塚 健二
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993183487
Publication number (International publication number)：1995016447
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Jan. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 半導体工業、化学工業で使用される水素、一酸化炭素などのガスを使用場所の近くで簡易に製造できるガスの発生装置で、小型で能力が大きく、しかも、高純度のガスが得られる装置を開発する。【構成】 分解ガスの発生部と圧力変動式吸着精製部を組み合わせた装置で、液体原料の供給槽内を、二酸化炭素など原料に対して化学的に不活性で、吸着材に対しては良く吸着されるガスで曝気、シールする。

Claim (excerpt)：

液体原料を気化させて接触分解させる分解ガスの発生部と、該接触分解により発生したガスを成分分離して1種または複数種の製品ガスを得る圧力変動式吸着精製部とが組み合わせられてなるガス発生装置において、液体原料の供給槽であって、かつ、1箇所または複数箇所にシール用ガスの導入管が設けられた供給槽と、該供給槽と接続された気化器と、該気化器の出口と接続された分解器であって内部に触媒が充填された分解器と、該分解器と接続された圧力変動式吸着精製器であって内部に吸着材が充填された複数の吸着筒によって構成された圧力変動式吸着精製器とを備えてなり、前記液体原料の供給槽が、液体原料に対して化学的に不活性で、かつ、吸着材に対して強吸着性を有するガスによってシールされたことを特徴とするガス発生装置。

IPC (6)：

B01J 7/00 ,  B01D 53/04 ,  C01B 3/32 ,  C01B 3/56 ,  C01B 31/18 ,  C01B 31/20