Pat
J-GLOBAL ID:200903035047067700
球状シリカ多孔質粒子及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
小野 尚純
, 奥貫 佐知子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002349024
Publication number (International publication number):2004143026
Application date: Nov. 29, 2002
Publication date: May. 20, 2004
Summary:
【課題】安価なアルカリ珪酸塩をシリカ源とし、無毒性の非イオン性界面活性剤をテンプレートとして使用し、特定の反応条件下で比較的大きい比表面積とメソポアとマイクロポアの微細孔とを有する、新規な球形多孔質シリカ粒子及びその製造方法を提供する。【解決手段】メソポアとマイクロポアの微細孔とを併せ持ち、小角X線回折において回折角0.3乃至2.0度(CuKα)に細孔の規則配列構造を示す回折ピークを有し、且つ粒径が20乃至500μmの球状粒子からなる球状多孔質シリカ粒子。【選択図】 なし。
Claim (excerpt):
メソポアとマイクロポアの微細孔とを併せ持ち、小角X線回折において回折角0.3乃至2.0度(CuKα)に細孔の規則配列構造を示す回折ピークを有し、且つ粒径が20乃至500μmの球状粒子からなることを特徴とする球状多孔質シリカ粒子。
IPC (5):
C01B33/193
, B01J20/10
, B01J20/28
, B01J21/08
, B01J32/00
FI (5):
C01B33/193
, B01J20/10 A
, B01J20/28 A
, B01J21/08 M
, B01J32/00
F-Term (51):
4G066AA22B
, 4G066AA30A
, 4G066AA53D
, 4G066AC22D
, 4G066BA09
, 4G066BA20
, 4G066BA23
, 4G066BA24
, 4G066BA25
, 4G066BA26
, 4G066BA36
, 4G066BA38
, 4G069AA01
, 4G069AA12
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069EA04X
, 4G069EA04Y
, 4G069EB18Y
, 4G069EC04Y
, 4G069EC06X
, 4G069EC06Y
, 4G069EC07X
, 4G069EC07Y
, 4G069EC14X
, 4G069EC14Y
, 4G069EC20
, 4G072AA25
, 4G072BB07
, 4G072BB15
, 4G072DD02
, 4G072DD03
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH21
, 4G072HH22
, 4G072JJ11
, 4G072JJ16
, 4G072KK17
, 4G072MM01
, 4G072RR05
, 4G072RR12
, 4G072SS01
, 4G072SS02
, 4G072TT01
, 4G072TT06
, 4G072TT08
, 4G072TT09
, 4G072UU11
, 4G072UU15
, 4G072UU17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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球状メソ多孔体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-158046
Applicant:株式会社豊田中央研究所, 富士シリシア化学株式会社
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メソポーラスシリカの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-076705
Applicant:旭化成株式会社
-
球状多孔質シリカ乃至シリカ金属複合体粒子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-380760
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 水澤化学工業株式会社, 小菅勝典
-
メソ多孔体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-124690
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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ガス吸着分離用多孔体及びそれを用いたガス吸着分離方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-101435
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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