Pat
J-GLOBAL ID：200903035058495445

水処理方法

Inventor：
角川 功明

About 角川 功明

, 
本山 信行

About 本山 信行

, 
野中 規正

About 野中 規正


Applicant, Patent owner：
富士電機システムズ株式会社

About 富士電機システムズ株式会社


Agent (4)： 山口 巖 ,  駒田 喜英 ,  松崎 清 ,  篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002296495
Publication number (International publication number)：2004130197
Application date： Oct. 09, 2002
Publication date： Apr. 30, 2004
Summary：
【課題】膜ろ過工程と膜モジュールの逆洗工程とを含む全量ろ過方式の水処理方法において、膜ファウリングを抑制し、ひいては薬品洗浄回数の低減と設備およびメンテナンスコストの低減を図る。【解決手段】水ろ過用の膜モジュール5を用いた全量ろ過方式の水処理方法において、ろ過膜1表面に無機物粒子によるコーティング層2を形成した後、被処理水の膜ろ過を行なう工程と、前記膜モジュールの逆圧洗浄(逆洗)を行なう工程とを含むこととする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
水ろ過用の膜モジュールを用いた全量ろ過方式の水処理方法において、ろ過膜表面に無機物粒子によるコーティング層を形成した後、被処理水の膜ろ過を行なう工程と、前記膜モジュールの逆圧洗浄(逆洗)を行なう工程とを含むことを特徴とする水処理方法。
IPC (4)：
C02F1/44 ,  B01D37/02 ,  B01D61/16 ,  B01D65/02
FI (6)：
C02F1/44 K ,  C02F1/44 C ,  B01D37/02 D ,  B01D37/02 E ,  B01D61/16 ,  B01D65/02
F-Term (39)：
4D006GA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA61 ,  4D006HA95 ,  4D006KA03 ,  4D006KA32 ,  4D006KA33 ,  4D006KB13 ,  4D006KC03 ,  4D006KC13 ,  4D006KC16 ,  4D006KD08 ,  4D006KD30 ,  4D006KE12P ,  4D006KE24Q ,  4D006KE28Q ,  4D006MA21 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006MC18X ,  4D006MC29X ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB08 ,  4D066AB04 ,  4D066AC05 ,  4D066BA01 ,  4D066CA01 ,  4D066CA02 ,  4D066CA06 ,  4D066CA13 ,  4D066CA14 ,  4D066CB03 ,  4D066EA08 ,  4D066EA09 ,  4D066FA02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • プラントの運転方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-024729   Applicant：株式会社日立製作所
  • 濾過方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-038893   Applicant：栗田工業株式会社
  • 特開平4-114722
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM