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J-GLOBAL ID：200903035102851505

ガス精製方法、ガス精製システム及び発電システム

Inventor：
森 豊

About 森 豊

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村井 正夫

About 村井 正夫

, 
蘇 慶泉

About 蘇 慶泉

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東郷 友裕

About 東郷 友裕


Applicant, Patent owner：
株式会社荏原製作所

About 株式会社荏原製作所


Agent (1)： 宮川 貞二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002020952
Publication number (International publication number)：2003220316
Application date： Jan. 30, 2002
Publication date： Aug. 05, 2003
Summary：
【要約】【課題】 酸性ガス濃度制御の応答性並びに安定性に優れた、ガス精製方法、ガス精製システム及び発電システムを提供する。【解決手段】 処理液に酸性ガスを吸収させる吸収装置11と、処理液を再生する再生装置21との間で、処理液を循環する循環工程と;酸性ガスを処理液に吸収させる吸収工程と;吸収装置11の処理液温度を検出する第1の温度検出工程と;再生装置21の処理液温度を検出する第2の温度検出工程と;被処理ガス中の酸性ガスの濃度C1を検出する濃度検出工程と;第1の温度T1と第2の温度T2とに基いて、前記酸性ガスの濃度と前記処理液の循環量Qとの関係を予め求められた関係の中から選択する選択工程と;前記関係と濃度C1と濃度の設定値C0とに基いて、処理液循環量を調節する循環量調節工程とを備え;循環量Qを調節することにより酸性ガス濃度を設定値C0に制御するガス精製方法。
Claim (excerpt)：
被処理ガス中の酸性ガスを除去して前記被処理ガスを精製するガス精製方法において;前記酸性ガスを吸収する塩基性の処理液に前記酸性ガスを吸収させる吸収装置と、前記酸性ガスを吸収した前記処理液を再生する再生装置との間で、前記処理液を循環する循環工程と;前記被処理ガスを前記吸収装置に供給して、前記処理液に前記酸性ガスを吸収させる吸収工程と;前記吸収装置を流れる処理液温度を検出する第1の温度検出工程と;前記再生装置を流れる処理液温度を検出する第2の温度検出工程と;前記酸性ガスを吸収された被処理ガス中の酸性ガスの濃度を検出する濃度検出工程と;前記第1の温度検出工程で検出された第1の温度と前記第2の温度検出工程で検出された第2の温度とに基いて、前記酸性ガスの濃度と前記処理液の循環量との関係を予め求められた関係の中から選択する選択工程と;前記選択工程で選択された関係と、前記検出された濃度と、前記酸性ガス濃度の所望の設定値とに基いて、処理液循環量を調節する循環量調節工程とを備え;前記処理液の循環量を調節することにより前記酸性ガス濃度を前記設定値に制御する;ガス精製方法。
IPC (6)：
B01D 53/14 ,  B01D 53/14 103 ,  C01B 3/38 ,  C10K 3/00 ,  H01M 8/04 ,  H01M 8/06
FI (7)：
B01D 53/14 C ,  B01D 53/14 103 ,  C01B 3/38 ,  C10K 3/00 ,  H01M 8/04 G ,  H01M 8/04 J ,  H01M 8/06 R
F-Term (39)：
4D020AA03 ,  4D020AA04 ,  4D020BA01 ,  4D020BA09 ,  4D020BA16 ,  4D020BB03 ,  4D020BB04 ,  4D020BC01 ,  4D020CB01 ,  4D020CB08 ,  4D020CB25 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DB03 ,  4D020DB05 ,  4D020DB06 ,  4G040EA03 ,  4G040EB01 ,  4H060AA01 ,  4H060AA08 ,  4H060BB04 ,  4H060BB23 ,  4H060BB32 ,  4H060CC03 ,  4H060CC04 ,  4H060CC06 ,  4H060DD02 ,  4H060DD12 ,  4H060EE04 ,  4H060FF04 ,  4H060FF13 ,  4H060GG02 ,  5H027AA04 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16 ,  5H027KK31 ,  5H027KK41 ,  5H027MM01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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