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J-GLOBAL ID:200903035140318144
半導体集積回路
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999182902
Publication number (International publication number):2001015704
Application date: Jun. 29, 1999
Publication date: Jan. 19, 2001
Summary:
【要約】【課題】集積回路内では、それぞれの回路の事情により最適なゲート長とゲート酸化膜厚としきい値電圧があることになる。これらの回路を同一基板上に集積する半導体集積回路では、それぞれの回路の最適な値にするために製造工程が複雑化し、結果として歩留まりの低下、製造日数の増加に伴い製造コストの上昇をもたらす。【解決手段】論理回路には高低2種類のしきい値のトランジスタを用い、メモリセルには高しきい値電圧と同じしきい値電圧のトランジスタにより構成し、入出力回路は上記の高しきい値電圧と同じチャネルの不純物濃度でゲート酸化膜厚を厚くしたトランジスタを用いて構成する。
Claim (excerpt):
論理回路と、メモリセルを集積したメモリセルアレーを具備し、上記論理回路は第1しきい値電圧を持つNMOSトランジスタと第3しきい値電圧を持つPMOSトランジスタよりなる第1論理ゲートと、第2しきい値電圧を持つNMOSトランジスタと第4しきい値電圧を持つPMOSトランジスタよりなる第2論理ゲートにより形成され、上記メモリセルアレーは2つの負荷MOSトランジスタと2つの駆動MOSトランジスタと、2つの転送MOSトランジスタからなるスタティック型のメモリセルを集積したメモリセルアレーであり、上記2つの負荷MOSトランジスタは上記第4しきい値電圧を有するPMOSトランジスタにより形成され、上記2つの駆動MOSトランジスタは上記第2しきい値電圧を有するNMOSトランジスタにより形成され、上記第1しきい値電圧は上記第2しきい値電圧より小さく、上記第3しきい値電圧の絶対値は上記第4しきい値電圧の絶対値より小さいことを特徴とする半導体集積回路。
IPC (9):
H01L 27/10 481
, G11C 11/41
, G11C 11/401
, H01L 21/8238
, H01L 27/092
, H01L 21/8244
, H01L 27/11
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
FI (7):
H01L 27/10 481
, G11C 11/34 Z
, G11C 11/34 352 Z
, H01L 27/08 321 D
, H01L 27/08 321 K
, H01L 27/10 381
, H01L 27/10 681 F
F-Term (51):
5B015HH01
, 5B015HH03
, 5B015JJ02
, 5B015JJ05
, 5B015JJ21
, 5B015KA13
, 5B015KB00
, 5B015KB32
, 5B015KB33
, 5B015QQ01
, 5B015QQ03
, 5B024AA01
, 5B024AA15
, 5B024BA03
, 5B024BA29
, 5B024CA01
, 5B024CA03
, 5B024CA27
, 5F048AB01
, 5F048AB03
, 5F048AC03
, 5F048BA01
, 5F048BB03
, 5F048BB15
, 5F048BB16
, 5F048BB18
, 5F048BD01
, 5F048BD04
, 5F048BD10
, 5F048BE03
, 5F048BE04
, 5F083AD00
, 5F083BS02
, 5F083BS14
, 5F083BS27
, 5F083GA01
, 5F083GA05
, 5F083GA06
, 5F083GA11
, 5F083KA06
, 5F083LA03
, 5F083LA04
, 5F083LA05
, 5F083LA09
, 5F083LA10
, 5F083PR14
, 5F083PR36
, 5F083ZA04
, 5F083ZA07
, 5F083ZA08
, 5F083ZA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
論理回路およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-131136
Applicant:日本電信電話株式会社
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-176320
Applicant:株式会社リコー
-
半導体集積回路装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-118644
Applicant:株式会社日立製作所
-
半導体記憶装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-171814
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
CMOS半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-024975
Applicant:富士電機株式会社
-
半導体記憶装置、半導体装置、データ処理装置及びコンピュータシステム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-016223
Applicant:株式会社日立製作所
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