Pat
J-GLOBAL ID:200903035163143236
半導体パッケージの製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002151833
Publication number (International publication number):2003347357
Application date: May. 27, 2002
Publication date: Dec. 05, 2003
Summary:
【要約】【課題】 素子機能面上に空間を必要とする半導体・MEMS素子のパッケージを効率よく小型化する方法を提供する。【解決手段】 半導体・MEMS素子の機能面をサブストレートに正対するように搭載し、サブストレートと半導体・MEMS素子を電気的に接合させてなる半導体・MEMSパッケージにおいて、半導体素子機能面とサブストレートの間に空間を設けるために、半導体・MEMS素子上に感光性絶縁樹脂を配置し、該空間部をフォトリソグラフィーの手法により形成する半導体パッケージの製造方法。
Claim (excerpt):
半導体・MEMS素子の機能面をサブストレートに正対するように搭載し、サブストレートと半導体・MEMS素子を電気的に接合させてなる半導体・MEMSパッケージにおいて、半導体素子機能面とサブストレートの間に空間部を設けるために、半導体・MEMS素子機能面上に感光性樹脂を配置し、該空間部をフォトリソグラフィーの手法により形成することを特徴とする半導体パッケージの製造方法。
IPC (6):
H01L 21/60 311
, B81C 3/00
, C09J 4/00
, C09J 5/00
, C09J161/06
, C09J163/00
FI (6):
H01L 21/60 311 S
, B81C 3/00
, C09J 4/00
, C09J 5/00
, C09J161/06
, C09J163/00
F-Term (19):
4J040EB031
, 4J040EC001
, 4J040FA13
, 4J040FA17
, 4J040FA25
, 4J040GA01
, 4J040HA006
, 4J040JB08
, 4J040KA13
, 4J040KA42
, 4J040NA20
, 4J040PA30
, 4J040PA32
, 5F044KK01
, 5F044LL00
, 5F044LL17
, 5F044RR17
, 5F044RR18
, 5F044RR19
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