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J-GLOBAL ID：200903035176571083

燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる触媒

Inventor：
菊地 英一

About 菊地 英一


Applicant, Patent owner：
東京瓦斯株式会社

About 東京瓦斯株式会社

, 
東ソー株式会社

About 東ソー株式会社


Agent (1)： 片桐 光治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994243411
Publication number (International publication number)：1996080424
Application date： Sep. 13, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：
【要約】【目的】 本発明は、希薄焼結方式により発生する燃焼排ガスの浄化方法であって、特定の触媒を用いることにより、該排ガス中に水蒸気が共存する場合であっても該排ガス中に含有される窒素酸化物を極めて効率良く浄化できる前記浄化方法および該方法に用いられる触媒を提供することを目的としている。【構成】 本発明は、希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスであって、該燃焼排ガスを、ZSM-5型ゼオライト担体に第1成分としてインジウムを担持してなるIn-ZSM-5触媒にさらに第2成分としてイリジウム、白金、ロジウム、クロム、パラジウム、鉄およびセリウムよりなる群から選ばれる金属を担持してなる活性化In-ZSM-5触媒の存在下に接触反応させることを特徴とする燃焼排ガスの浄化方法および該方法に用いられる活性化In-ZSM-5触媒を提供するものである。
Claim (excerpt)：
希薄燃焼方式により発生する燃焼排ガスであって、少量の低級炭化水素、窒素酸化物および一酸化炭素と多量の酸素および水蒸気とを含有する該燃焼排ガスを、ZSM-5型ゼオライト担体に第1成分としてインジウムを担持してなるIn-ZSM-5触媒に、さらに第2成分としてイリジウム、白金、ロジウム、クロム、パラジウム、鉄およびセリウムよりなる群から選ばれる金属を担持してなる活性化In-ZSM-5触媒の存在下に接触反応させることよりなり、必要に応じて該燃焼排ガスに少量の低級炭化水素を新たに添加し、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素と必要に応じて該燃焼排ガスに新たに添加される低級炭化水素との合計量が該燃焼排ガス中に含まれる窒素酸化物を還元・浄化するのに必要な量であり、該燃焼排ガス中に含まれる低級炭化水素がメタンまたはメタンを主成分とする低級炭化水素の混合ガスであり、必要に応じて該燃焼排ガスに新たに添加される低級炭化水素がメタンまたはメタンを主成分とする低級炭化水素の混合ガスであることを特徴とする燃焼排ガスの浄化方法。
IPC (4)：
B01D 53/94 ,  B01J 29/44 ZAB ,  B01J 29/46 ZAB ,  B01J 29/48 ZAB
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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