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J-GLOBAL ID：200903035183486385

露光方法

Inventor： 鈴木 章義
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993124190
Publication number (International publication number)：1994333795
Application date： May. 26, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：

【要約】【目的】 複数枚のレチクル1,2を用いた多重露光を正確に且つ高速に実行することのできる露光方法を提供する。【構成】 複数のレチクル1,2を用いて多重露光を行い、ウエハ70上に所望のパターンを形成する露光方法において、先の露光シーケンスにおいて露光されたウエハ上の各ショットのウエハステージ72の位置と先の露光シーケンスで使用されたレチクル1のセット位置を記憶し、後の露光シーケンスにおいては記憶された各ショットのウエハステージ72の位置に対して先のレチクル1のセット位置と後のレチクル2のセット位置の差を代数的に加算したウエハステージ72の位置で露光を行う。

Claim (excerpt)：

複数のレチクルを用いて多重露光を行い、ウエハ上にパターンを形成する露光方法において、先の露光シーケンスにおいて露光された前記ウエハ上の各ショットのウエハステージ位置と先の露光シーケンスで使用されたレチクルのセット位置を記憶し、後の露光シーケンスにおいては記憶された各ショットのウエハステージ位置に対して先のレチクルのセット位置と後のレチクルのセット位置の差を代数的に加算したウエハステージ位置で露光を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4)：

H01L 21/30 301 C ,  H01L 21/30 311 W ,  H01L 21/30 311 C ,  H01L 21/30 311 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-166717
  
• 特開平4-355910
  
• 特開平4-329623