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J-GLOBAL ID：200903035194671478

電子デバイス及びその製造方法

Inventor： 宮下 悟
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998078148
Publication number (International publication number)：1999274681
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 印刷法によっても基板の目的とする位置に均質に素子パターンを形成する。【解決手段】 基板12上に無機酸化物の多孔質体からなる吸着層13を形成する。電極や絶縁膜の形成材料を溶媒中に分散させたインクをこの吸着層上に吐出すると、インクの溶媒がこの吸着層13中に拡散する。

Claim (excerpt)：

基板上に素子のパターンが印刷法によって形成されてなる電子デバイスであって、前記素子パターンを形成するための材料を含むインクの溶媒に対して吸着能を有する吸着層が前記基板上に形成されてなり、かつ、この吸着層中に前記溶媒が吸着されることにより前記材料がこの吸着層上に素子パターンとして積層されてなること特徴とする電子デバイス。