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J-GLOBAL ID：200903035214142922

膜厚測定方法

Inventor： 川平 博敏
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 西田 新
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992081833
Publication number (International publication number)：1993280937
Application date： Apr. 03, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ウェハの凹凸やソリによる測定値の誤差が生じない膜厚の測定方法を提供する。【構成】 ウェハの凹凸やソリを測定して、その凹凸やソリによって生じる入射角のばらつきを補正することにより、常に光軸に対して一定の入射角度を保った状態でエリプソメトリ法により膜厚の測定を行う。

Claim (excerpt)：

光軸上に沿って、エリプソ光源の光を直線偏光に変える偏光子と、その光が入射するステージ上に載置されたウェハと、そのウェハを反射した反射光を検光する検光子とが順に配列され、その検光された光の光電流に応じて薄膜の厚さを求める解析手段を有するエリプソメータを用いて上記試料の膜厚を測定する方法において、上記ウェハ面内の複数の測定点について、上記入射光の反射強度が最大となるよう上記ステージを上下移動させ、その移動距離から上記複数の測定点における基準面からの高さを求め、所定の測定点における膜厚を、その所定の測定点近傍の2点の高さの差aおよびこの2点の平面間の距離bを用いて、下記(A)式により求めた補正角度αだけ上記ステージを傾斜させることにより、上記エリプソ光源から試料へ入射する入射角度を較正し、この入射角度を上記測定点のいずれにおいても、一定とした状態で上記エリプソメータにより測定することを特徴とする膜厚測定方法。tanα=a/b・・・・(A)